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    NF-300H Astra
    12英寸PEALD設備

    產品介紹

    NF-300H Astra 系列是我公司自主研發的原子層沉積(Atomic Layer Deposition)設備,可配置3個6站的反應腔,其ALD反應腔搭載在高產能的PECVD平臺上,滿足了對設備產能的需求,現已應用于先進的芯片制造及先進封裝(TSV)領域,同時針對14nm以下前道工藝(FEOL)進行研制開發?,F可提供具有高質量的PEALD,如SiO2、SiN薄膜,并陸續開發金屬氧化物及金屬氮化物等薄膜工藝。



     
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